设备规格

 衬底尺寸：标准尺寸：200mm Dia (8 inch）（可定制)

工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）
前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶

加热系统：可加热温度范围：RT~150℃

反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）
载气：标准：N₂, MFC 流量控制（可定制）
压力监测：双薄膜规组合，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10^-3 Torr
真空系统：标准油泵

控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展
操作系统：Win7 操作系统工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作

高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃

预留模块：预留等离子体系统接口，无需更换腔体即可直接升级至等离子体系统（PEALD），实现Thermal-ALD与PEALD的双模式切换

  工艺

 可沉积薄膜种类和应用场景包括：

1、High-K介电材料 (Al₂O₃, H₂O, ZrO₂, PrA₁Q, Ta₂O₅, La₂O₃);
2、金属互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
3、催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO₂):
4、生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);

5、金属(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni）;
6、压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
7、透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
8、光子晶体(ZnO, TiO₂, Ta₃N₅);

机架

1、框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好

2、外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便

3、显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停

控制系统

1、控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。

2、采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能

3、设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式

4、设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，设备和人身安全

5、设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示

6、设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能

真空系统

1、真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障

应用领域

产品应用

1.纳米材料：ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高保形的纳米级薄膜。ALD具有高致密性以及高纵宽比结构均匀性，为MEMS机械耐磨层、抗腐蚀层、介电层、憎水涂层、生物相容性涂层、刻蚀掩膜层等提供解决方案。ALD技术沉积参数高度可控，可通过控制循环数来控制MTJ所需达到的各项参数，是适用于MTJ制造的工艺方案之一。ALD技术可通过表面修饰，改善纳米孔的生物相容性，同时提升抗菌抑菌和促进细胞合成。

2.太阳能电池：ALD基材料在c-Si太阳能电池中的应用始于Al₂O₃，Al₂O₃是一种表面钝化层，被发现可以显着提高c-Si太阳能电池的效率并应用于大规模产业化中。此后的研究中，ALD的应用研究从表面钝化层扩展到载流子传输材料[8]。

3.催化：ALD技术很容易地控制纳米颗粒的大小、孔隙结构、含量和分散，有效设计出核壳结构、氧化物/金属倒载结构、氧化物限域结构、具有多金属管套结构和多层结构，且自限制特性可实现催化材料在高比表面材料上的均匀和可控沉积，实现一步步和“自底向上”的方式在原子层面上构建复杂结构的异质催化剂材料而得到研究。利用ALD技术具有饱和自限制的表面反应特性，有效抑制金属有机化合物、配体的空间位置效应，天然的将金属中心原子互相隔离开，抑制金属原子聚集，合成单原子催化剂。利用ALD技术有效调控金属与载体间的相互作用的特性，可获得单金属催化剂，如Ru、Pt、Pd等贵金属。利用ALD技术制备金属氧化物，不仅可以制备性能更加优良的多相催化剂，而且可以对负载型催化剂进行改性，达到修饰、保护催化剂的目的。

4.锂电池：ALD在锂离子电池中的应用特点：（1）电极材料的制备和改性；（2）阴极材料上的保护镀膜；（3）阳极材料上的人造固体电解质相间（SEI）；（4）锂金属阳极钝化和防止枝晶生长；（5）ALD作用的固态电解质（SSE）；（6）隔离膜上的保护涂层

原速科技ALD技术在锂电池领域的应用主要有以下几个方面：

a、锂电池PP/PE隔膜包覆，改善隔膜的浸润性，耐压性，热收缩性能

b、锂电池正极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能等

c、锂电池负极包覆，改善电池的倍率性能，循环性能以及安全性能

5.光学镀膜：ALD薄膜以饱和吸附的layer-by-layer生长模式，可在结构复杂的几何表面，如大曲面及高纵深比深孔结构，大面积形成高均匀性薄膜，且膜层相较于PVD膜更为致密，在界面处的结合力更强，更适用于工***光学器件的制造。

6.生物医疗：ALD可以通过低温沉积形成非常致密的保护膜，由于是纳米级别的膜厚其本身对医疗设备也不会造成影响，沉积ALD涂层后可以大幅度增加植入设备的寿命以及安全性，也有可能减少更换手术的频率；同时ALD有多种材料都具有生物相容性，这种涂层对人体组织是没有任何细胞毒性的，这使得在再生医学领域中，用于对细胞构建生物相容性底物的制备时，ALD沉积表面涂层能满足对生物相容性材料的需求。

7.OLED：几十纳米厚度的ALD封装膜甚至可媲美传统OLED封装技术的阻隔效果，同时具有良好的透光率、热导率、机械强度、与基底的粘结性等性质；ALD封装薄膜因其纳米级的膜厚，可以实现很大程度上的弯曲并保持封装效果不变，这一特性可兼容柔性OLED器件封装，真正做到显示屏的可折叠、卷曲；ALD薄膜保型性使其在一些复杂形貌和三维纳米结构的LED表面实现钝化保护层，有效地起到阻隔水氧的作用；用ALD在LED表面沉积钝化膜还可以很好地修补被等离子刻蚀造成的破坏性表面，可有效降低漏电流，提高LED效率。